兩級DTRO工藝是基于盤管反滲透膜的工藝應用

　　半導體行業是一個高能耗的領域。在這一領域，由于生產設備的精度和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，特別是對于半導體行業的血液超純水系統。

　　如果你想保持競爭力，你必須從增加產量和降低成本開始。因此，本文探討了半導體行業中超純水處理系統的優化設計，為相關科研工作提供一定的理論幫助。

　　隨著科學研究的不斷進步和發展，半導體行業需要大量高質量的超純水。超純水制備起初采用了傳統的離子交換樹脂方法，一次投資少，占地面積小，但不斷消耗大量酸堿，離子再生，在一定程度上污染了環境。

　　目前，反滲透和離子交換設備的方法更為流行。雖然一次成本略高于以前，但離子再生周期相對較長，酸堿消耗量遠低于以前。本文分析了反滲透預處理和電去離子裝置的方法，是超純水制備相對先進和環保的工藝方法，無需酸堿再生即可連續生產超純水，不會污染環境，超純水是世界上純凈質量要求較高的水。

　　半導體行業中超純水設備系統采用先進的水處理技術和設備：預處理系統，降低水中溶解總固體的含量，去除水中的懸浮雜質。反滲透系統，多采用雙級反滲透工藝，從而降低能耗。EDI模塊和CEDI模塊通常用于電去離子。EDI是指將鹽水循環注入濃水室，從而降低膜組的電阻率。不僅如此，還需要使用不含硬度離子的精鹽，以確保高精度。CEDI模塊是指在不注入鹽水循環的情況下，不使用化學物質，通過zhuanli樹脂技術降低膜組電阻率，濃水電導率為20～100μS/cm，無極水排放，拋光混床部分基本采用雙級拋光混床。超純水處理系統首先通過原水池，在增壓汞工作下進入多介質過濾模塊，然后通過安全過濾器和高壓汞處理進入反滲透裝置模塊，到達中間水箱，然后通過增壓汞，通過陽床和陰床到達大循環水箱，進入動力傳輸和單混合床，然后在紫外線滅菌器的作用下進入有效控制純水中顆粒含量的終端過濾，通過終端過濾的超純水流入回水管道、出水管道、廢水排放管道和檢測模塊。通過超純水的制備工藝，有效控制了超純水中的離子、TOC、溶解氧、顆粒和硅含量，較大限度地減少了二次污染。

　　傳統純水制備設備安裝后，無人問津數據的收集和管理。傳統模式對系統優化有很大的弊端。首先，它對水生產過程的操作人員有很大的依賴性，需要實時確認和解釋水質、氮供應和各種汞的運行情況。因此，它對管理者的專業能力要求很高，會損失很多專業人才。

　　兩級DTRO工藝是基于盤管反滲透膜的工藝應用，其核心技術是盤管反滲透膜獨特的結構形式，使反滲透膜直接處理高濃度廢水成為可能，是一種穩定可靠的處理技術，具有投資省、自控程度高、操作維護簡單、運行成本低、穩定可持續滿足排放要求的特點，具體如下：

　?。?）工藝簡單緊湊，純水設備標準化。如兩級DTRO成套裝置圖，整套裝置集成預處理砂濾清系統、安全過濾器、反滲透膜組件、高壓泵、循環泵、系統清洗水箱、設備供電控制MCC柜、PLC柜等。

　　此外，用于原水加酸調節、出水堿回調等原水罐、泵閥也是標準化的成套設備，在工廠完成加工、安裝和調試；運輸現場吊裝到位后即可調試，投入運行周期短。

　?。?）工藝穩定性強，維護簡單，能耗低。由于影響膜系統截留率的因素較少，系統出水水質非常穩定，不受秦秦生化和氮比的影響；工藝中使用的DT膜組件采用標準化設計，易于拆卸和維護。

　　打開DT組件，可以輕松檢查和維護任何過濾膜和其他部件。維護簡單。當零件數量不足時，組件允許少安裝膜和導流板，而不影響DT膜組件的使用。